• 露光装置

露光装置

半导体光刻机

  • 露光装置：PPS-8200/8300
    PPS-8200/8300

    wafer用・载板用
    高精度・高生产性光刻机

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  • 露光装置：PPS-8500
    PPS-8500

    板材・载板用
    高精度・高生产性光刻机

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电子线路板用直描式曝光机

  • 露光装置：FDiシリーズ
    FDi系列

    比10μm更先端
    高精度・高解像度图形用
    最高水平的直描式曝光装置

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  • 露光装置：EDiシリーズ
    EDi系列

    防焊用直描式曝光机的
    业界标杆

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  • 露光装置：RDiシリーズ
    Rdi系列

    卷对卷搬送
    对应于软板生产
    直描式曝光机

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  • 露光装置：Mmsシリーズ
    Mms系列

    在保持高精度的条件下,
    可以对应各种使用用途的手动型
    直描式曝光机

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  • 露光装置関連製品：CAMstation FX

     

    直描式曝光机关联制品 CAMstation FX

    直描式曝光机用数据编辑系统

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电子线路板用底片式曝光机

  • 露光装置：EXP-2900
    EXP-2900

    内层线路形成／化学铣削用
    两面同时曝光
    全自动底片曝光机

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  • 露光装置：EXP-2500
    EXP-2500

    线路图形形成用
    高精度・高生产性
    全自动底片曝光机

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  • 露光装置：EXP-2700
    EXP-2700

    防焊膜形成用
    高精度，高生產性
    底片全自动曝光机

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  • 露光装置：EXP-2031B
    EXP-2031B

    电路图形／防焊膜形成用
    分割曝光对应高精度
    底片式全自动曝光机

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