电子电路基板的内层图形形成化学铣削(通过金属蚀刻形成图形) |
UV-LED光源新机型投入平行光的UV-LED光源新机的投入,满足市场省能源的要求 |
9.5 秒(含真空密接时间2 秒)+ 曝光时间 实现「5张/分钟」高生产性的高照度光源 完备的清洁对策提高了良品率 |
生产性向上
精度稳定
光源变化
充实的供选规格
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制品规格
Specification
型式 | EXP-2900P | EXP-2900P-LED | EXP-2900S | EXP-2900PE |
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基板尺寸 | 26"x22 ~ 13"x11.8" | 24.5"x28.5" ~ 13.5"x16" | ||
基板厚度 | 0.04 mm ~ 2.4 mm | 0.04 mm ~ 2.0 mm | ||
对位精度 | ±5 μm(重复对位精度) | |||
生产周期 | 9.5 秒(含真空密接时间2 秒)+ 曝光时间 | 11 秒(含真空密接时间2 秒)+ 曝光时间 | ||
光学系统 | 平行光 | 散射光 | 平行光 | |
光源 | 短弧光UV灯5kW x1 | UV-LED 灯组 x2 | 金属卤素UV灯7kWx2 | 短弧光UV灯5kW x1 |
照度分布 | 610 x 510 mm : 90% 660 x 560 mm : 85% |
660 x 560 mm : 85% | 610 x 710 mm : 85% | |
初期照度(最大) | 30 mW/c㎡ | 40m W/c㎡ | 25 mW/c㎡ | |
曝光方式 | 真空密接方式 | |||
搬送方式 | 端面吸嘴搬送方式 | |||
曝光室冷却机构 | 温湿度控制器 | 冰水机 | 温湿度控制器 | |
装置外形尺寸(本体) | 2620(W) × 2825(D) × 2365(H) mm | 2620(W) × 2485(D) × 2365(H) mm | 2620(W) × 2824(D) × 2365(H) mm | 3200(W) × 2777(D) × 2365(H) mm |
其他特注规格 | ||||
自动底片清洁机构 | 内置清洁机构 | |||
CCD移动机构 | 对应靶点任意位置设置 | |||
底片型 | 对应玻璃底片 | |||
底运行成本(2台使用时) | 两台耦合放置(仅P,PE对应) |