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UV照射装置


UVドラィプロセッサー

半導体製造プロセス、液晶基板製造プロセス等微細なパターンを形成する工程において、基板の表面に残る有機物に、UVを照射して有機物汚染を非接触で除去する装置です。基板イダメージを与えずに表面の洗浄と改質が出来ます。

HMW-615N
 

VUM-3073F

◆ 特 徴

1. 基板にダメージが少なく、有機物を分解する能力の高い独自の低圧UVランプを搭載しています。
2. 基板を揺動するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。
3. 基板はあまり加熱されません。
4. オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も適用できます。

◆ 仕 様

型式 HMW-615N-3 HMW-615N-4 VUM-3073F
使用ランプ 低圧UVランプ
VUV-080/A-3.6U・5灯
低圧UVランプ
VUV-100/A-5.3U・7灯
低圧UVランプ
VUV-040/A-2.2U・4灯
照射距離 25mm 25mm 15mm
照射面積 300W X 300D 400W X 400D 200W X 200D
照射時間 0〜10min(可変) 0〜99min59sec(可変)
排気オゾン除去 オゾン分解用フィルター使用
外形寸法 750W X 700DX 1,435H 180kg 580W X 500DX 240H 25kg

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