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コンタクト露光装置
ホーム製品情報Semiconductor Exposure System | PPS-8500

Semiconductor Exposure System

 PPS-8500 for Panel

用途

PPS-8500
■ 2.5D, 3D Package  
■ Various Interposers  
■ WL-CSP/FO-PLP  

  特徴

  ■ Variable Lens NA and 1:1 Dyson Optical System
■ Large Exposure Field : 52x33 mm2
■ User Friendly Reticle Design (max.8 fields)
■ Outgas Protection Unit for Optics
■ Handling System for thin Panel and warped Panel

  仕様

 
■ Exposure Wavelength  ghi-line, gh-line, i-line
■ Resolution  2 μm L/S (for 2 μm thickness photoresist)
■ Depth of Focus  ≧10μm
■ Initial Intensity  ≧2700mW/cm2
■ Exposure Uniformity  ≦ 3% (ghi-lines)
■ Exposure Filed  52 x 33 mm2
■ Overlay Accuracy  ≦ 1.0μm (|AVE|+3σ)
■ Panel Size  415 x 510mm2/515 x 510mm2
■ Dimension / Weight  4800(D) X 3000(W) X
 2500(H) / 11000Kg

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