전자회로기판의 내층패턴형성chemical milling(etching 가공 패턴 형성) |
LED 광원 타입 신등장평행광 UV-LED 광원 타입을 새롭게 라인업. 에너지 절약에 공헌. |
9.5초 + 노광 시간 (진공 밀착 시간 2초 포함) '5장/분'의 생산성을 실현한 고조도 램프 유닛 만전의 클린 대책으로 수율 개선 |
생산성 향상
정밀도 안정화
광원 바리에이션
충실한 옵션
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제품 사양
Specification
형식 | EXP-2900P | EXP-2900P-LED | EXP-2900S | EXP-2900PE |
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기판 사이즈 | 26"x22 ~ 13"x11.8" | 24.5"x28.5" ~ 13.5"x16" | ||
기판 두께 | 0.04 mm ~ 2.4 mm | 0.04 mm ~ 2.0 mm | ||
위치 정밀도 | ±5μm(반복 정밀도) | |||
사이클 타임 | 9.5초(진공 대기시간 2초 포함)+노광시간 | 11.0초 (진공 대기시간 2초 포함) + 노광시간 | ||
광학계 | 평행광 | 산란광 | 평행광 | |
광원 | Short arc UV 램프 5kW x 2 | UV-LED 유닛 x2 | 메탈 하라이드 UV 램프 7kWx2 | Short arc UV 램프 5kW x 2 |
조도 분포 | 610 x 510 mm : 90% 660 x 560 mm : 85% |
660 x 560 mm : 85% | 610 x 710 mm : 85% | |
초기 조도(최대) | 30 mW/c㎡ | 40m W/c㎡ | 25 mW/c㎡ | |
노광 방식 | 진공 밀착 방식 | |||
반송 방법 | 단면흡착 패드 방식 반송 | |||
노광실 냉각기구 | 온습조 유닛 | 냉동기 라디에이터 | 온습조 유닛 | |
장치 외형 치수(본체) | 2620(W) × 2825(D) × 2365(H) mm | 2620(W) × 2485(D) × 2365(H) mm | 2620(W) × 2824(D) × 2365(H) mm | 3200(W) × 2777(D) × 2365(H) mm |
옵션대응 | ||||
자동 마스크 클리닝 기구 | 내장 클린 롤러 | |||
카메라 이동 기구 | 임의 위치 얼라인먼트 마크 대응 | |||
마스크 타입 | glass 마스크 대응 | |||
낮은 러닝 코스트 (2 라인의 경우) | 더블라인 레이아웃(P, PE만) |