ハイエンド基板用
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大サイズワーク対応:最大660x558mm 高照度ランプ搭載:露光時間25% 短縮 |
HEPA フィルタ、マスクフィルム/露光ステージのクリーニング機構を標準装備 |
高生産性
クリーン対応(クラス100)
高解像性
高精度アライメントシステム(アライメント繰返し精度±3μm)
分割露光機能
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高解像性
High resolution
DFR:T25μm L/S12μm |
SR:T25μm Φ50μm |
高精度アライメント
High precision alignment
製品仕様
Specification
型式 | EXP-2031B 標準サイズ |
EXP-2031B 大サイズ |
EXP-2031B パッケージサイズ |
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基板サイズ | MAX.635×535 mm ~ MIN.330×300 mm | MAX.660×558 mm ~ MIN.330×300 mm | MAX.535×419 mm ~ MIN.330×300 mm |
基板厚さ | 0.04 mm ~ 2.4 mm (銅箔含まず) | ||
使用ランプ | ソルダー用:8kw ショートアークUVランプ パターン用:4kw ショートアークUVランプ | ||
有効照射域 | 610×510 mm | 620×520 mm | 533×419 mm |
初期照度(最大) | SR:85mW/c㎡ PT:35mW/c㎡ |
SR:63mW/c㎡ PT:35mW/c㎡ |
SR:92mW/c㎡ PT:35mW/c㎡ |
照度分布 | 94% 以上 | ||
位置精度 | ±3 μm(繰り返し精度) | ||
サイクルタイム | 一括露光時:11.5 秒(真空時間2 秒含む)+露光時間 分割露光時:7.5 秒(真空時間2 秒含む)+露光時間×分割数+4 秒 |
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装置外形寸法(本体) | 4704(W) × 2745(D) × 2496(H) mm | ||
装置重量 | 本体:約4800kg 別置ユニット:約1200kg |