露光装置:PPS-8200p1/8300p1
head PPS8300 02
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다양한 어플리케이션에 대응

WL-CSP, IGBT, CIS 등의 lithography 6/8/12인치 대응.

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  • Broad band 노광 (레시피와 연동된, ghi선, gh선, i선 자동 전환)
  • 가변NA기능 탑재 (0.16와 0.1의 가변)
  • 최대8필드 레티클 디자인 포멧
  • 레지스트 배출 가스와 주변 환경의 Chemical으로부터 방어 가능한 광학계
 
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제품 사양

Specification

형식 PPS-8200p1/8300p1
Wafer 사이즈 6/8/12인치
해상력 2.0 µmL/S(2.0 µm 레지스트 두께)
NA(개구수) 0.16、0.1가변
축소비 1:1
Field사이즈 52mm × 33mm
노광 파장 ghi-Line gh-line i-line (레시피 연동)
레티클 사이즈 6inch
중첩 정도 ≦0.5 µm(|Ave|+3σ)
장치사이즈/중량 (W)2,260×(D)3,460×(H)2,500mm / 5,500kg
주요옵션 백사이드 얼라인먼트 시스템
Wafer 주변 노광 시스템
Wafer 주변 비노광 시스템
얇은 Wafer 반송 시스템
GEM 통신 지원
인라인 대응

 

라인업

 

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