ホーム ｜ 製品情報 ｜ ＵＶ照射装置 ｜ UVイレーサー 低圧UVランプから放射する254nmのUVを利用し、プラズマ処理や、熱アニール処理工程などで、蓄積された電荷を効率よく除去し、素子の特性を改善します。　特性の改善により製品歩留まりの向上、信頼性の向上が期待できます。 ◆ 特　徴 1． フラッシュメモリやその他の不揮発性メモリ、イメージセンサなどのチャージ除去やデータ消去に有効です。 2． 半導体デバイスのトランジスタ特性の改善と安定化にも有効です。 3． チャージイレースに最適なUV波長を、効率よく照射します。 4． 幅広い角度からUVを照射することで、効率よくチャージを除去します。 5． 対象ウェーハサイズは、１２インチ（標準）、８インチ（オプション）となります。 6． 処理中のウェーハ温度は100℃程度です。低温で処理可能なため、ダメージを与えません。 7． 装置は、装置本体、ランプ電源ユニット、制御ユニットから構成されています。 ◆ 仕　様 型式 VUM-3500 処理ウエーハ サイズ 12インチ ○ 8インチ OP 同時処理枚数 15枚 スループット　※1 約35WPH カセット形態 FOUP ウェーハ搬送 自動搬送 ランプ灯数 20本 初期照度 45mW/cm2 照度測定 自動測定 装置サイズ・重量 本体　:　1360(W)×2210(D)×2700(H)　1400kg 電源部　:　1140(W)×1040(D)×2125(H)　800kg 制御部　:　1400(W)×450(D)×1950(H)　400kg ※1 照度45mW/cm2、 露光量:50J(1100sec)の場合