ホーム ｜ 製品情報 ｜ 半導体用露光装置 ｜ PPS-8200/8300 　PPS-8200/8300 6,8,12inchウェハ用モデル ■ 2.5D,3Dパッケージ ■ CIS/LED ■ TSV ■ IGBT ■ インターポーザ ■ MEMS ■ WL-CSP/FO-WLP ■ Bumping   ■　可変レンズNA機構と等倍Dyson光学系 ■　52x33mmの大面積露光フィールド ■　最大8フィールドの効率的なレチクルデザイン ■　周囲のケミカルとレジストアウトガスから光学系をプロテクト ■　薄ウェハ・TAIKOウェハ・反りウェハなどに柔軟に対応する搬送系   ■ 露光波長 　ghi線,gh線,i線 ■ 解像度 　2μm L/S (2μmt） ■ 焦点深度 　≧10μm ■ 初期照度 　≧2700mW/cm2 ■ 照度分布 　≦ ３％ (ghi線) ■ 露光フィールド 　52 x 33 mm ■ オーバーレイ精度 （自己重ね評価） 　≦ 0.5μm (|AVE|+3σ) ■ 適応ウェハ 　6,8,12inch ■ 装置寸法・重量 　3460(D) X 2260(W) X 　2500(H) / 5500Kg   ■ ウェハ裏面マークでのアライメント機能 ■ ウェハ周辺露光/非露光機能