 |
フレキシブル基板量産用として
|
 |
動画
Movie
製品の関連動画を再生
回路形成用 RDi-10 Duo
For circuit formation RDi-10 Duo
特長
- ２条流し対応により生産性を倍増（250mm幅ｘ２本同時露光の場合）
- 10μmの高解像性
- 独自の技術により、20mクラスの長尺回路 パターニングにも対応
- 高難度製品の「できる化」や歩留り改善など 導入効果はフィールドで実証済
2条流し露光
基材：FCCL 250mm幅ロール
L/S=15/15μm
基材：FCCL 250mm幅ロール
エッチング配線形成 曲線形成能力,PAD合わせ
回路形成用
RDi-MP/RDi-MP Duo
For circuit formation RDi-MP/RDi-MP Duo
特長
- ファインパターン形成用FDiの光学系を採用。露光モード切替機能搭載（※FDi参照）
- RDi-MP Duoでは、ロール基材２条流しに対応
ソルダー形成用 RDi-80
For solder formation RDi-80
特長
- 光源にUVランプを搭載し、ソルダーレジストや感光性カバーレイの感光波長に対応
製品仕様
Specification
| 光源 | 有効露光サイズ | 基材幅 | 解像性 | スループット | 総合重ね合わせ精度 | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| RDi-10 Duo | 半導体レーザ | 635x520mm | 250mm幅ｘ2本流し（500mm幅ｘ１本流しも可能） | 10μm L/S | 38秒/面 @30mJ MD:500mm | 6μm |
| RDi-MP | 半導体レーザ | 515x260mm | 250mm（※他要求応相談） | 4μm L/S | 45秒/面@55mJ MD: 515mm | 3.5μm |
| RDi-MP Duo | 半導体レーザ | 515x590mm | 250mm幅ｘ2本流し（※他要求応相談） | 4μm L/S | 44秒/面 @50mJ MD:500mm | 3.5μm |
| RDiｰ80 | UVランプ | 635x520mm | 250/500mm | 30μm L/S / Φ80μm | 58秒/面@150mJ 69秒/面@200mJ MD:610mm | 7μm |
