電子回路基板用
コンタクト露光装置

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  EXP-2900

  内層パターン形成／ケミカルミーリング用
  両面同時露光
  コンタクト露光装置

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  EXP-2500

  回路パターン形成用
  高精度・高生産性
  コンタクト露光装置

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  EXP-2700

  ソルダーマスク形成用
  高精度・高生産性
  コンタクト露光装置

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  EXP-2031B

  回路パターン／ソルダーマスク形成用
  分割露光対応高精度
  コンタクト露光装置

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