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Flexible PCB 양산용으로
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회로 형성용 RDi-10 Duo
For circuit formation RDi-10 Duo
특징
- 2열 동시노광 대응으로 생산성을 배증(250mm 폭x2 동시 노광의 경우)
- 10μm의 고해상성
- 독자 기술로 20m급 장척회로 Pattern에도 대응
- 고난위도 제품의 '가능화'나 수율 개선 등 도입 효과는 필드에서 실증 완료
2열 노광
기재: FCCL 250mm 폭 Roll
L/S=15/15μm
기재: FCCL 250mm 폭 Roll
etching 배선 형성 곡선 형성 능력,PAD정밀도
회로 형성용
RDi-MP/RDi-MP Duo
For circuit formation RDi-MP/RDi-MP Duo
특징
- Fine pattern 형성용 FDi의 광학계를 채용.노광 모드 전환 기능 탑재(※FDi 참조)
- RDi-MP Duo에서는 Roll 기재 2열에 대응
솔더형성용RDi-80
For solder formation RDi-80
특징
- UV램프로 인해 감광성 Coverlay/SR에 대응
제품사양
Specification
| 광원 | 유효 노광 사이즈 | 기재 폭 | 해상성 | 스루풋 | 종합 중첩 정도 | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| RDi-10 Duo | 반도체 레이저 | 635x520mm | 250mm 폭x2 (500mm 폭x1도 가능) | 10μm L/S | 38초/면 @30mJ MD:500mm | 6μm |
| RDi-MP | 반도체 레이저 | 515x260mm | 250mm (※ 기타 요구 상담) | 4μm L/S | 45초/면@55mJ MD: 515mm | 3.5μm |
| RDi-MP Duo | 반도체 레이저 | 515x590mm | 250mm 폭x2(※기타 요구 상담) | 4μm L/S | 44초/면 @50mJ MD:500mm | 3.5μm |
| RDiｰ80 | UV 램프 | 635x520mm | 250/500mm | 30μm L/S / Φ80μm | 58초/면@150mJ 69초/면@200mJ MD:610mm | 7μm |