高精度ソルダーレジスト用

ワークサイズ（標準または大判）

光源タイプ（散乱光または平行光）

位置決め精度向上

• 従来機（EXP-2001B) と比較して、ワークとマスクの位置決め精度が大幅に向上しました。

高出力ランプ採用

• 新規開発の高出力ランプを使用する事により、露光時間の大幅な短縮が可能になりました。

段取りの簡略化

• 焼枠ガラスの軽量化、段取り情報のレシピ化など、弊社最新機種と同じ機構を採用することにより、段取り時間の短縮を実現しました。

大サイズ基板対応（Eタイプ）

• 業界ニーズに応え、最大28.5” x 24.5” までの大サイズ基板対応タイプをリリースしました。

平行光光源タイプ

• 高精細化に応えるため、平行光光源タイプをリリース。
  高照度ショートアークUVランプを採用し、生産性も向上します。